G:gate 栅【shān】极;S:source 源极;D:drain 漏极【jí】 。N沟道的电源【yuán】一【yī】般接在D,输出S,P沟道的电源一般接【jiē】在S ,输【shū】出D。
增强耗尽接法基本一样。
无论N型或者P型MOS管【guǎn】,其工作【zuò】原理本质是一样的 。
扩展资料
mos管是金属(metal)—氧【yǎng】化物(oxide)—半导体【tǐ】(semiconductor)场效应晶体管,或者称是【shì】金属—绝缘体(insulator)—半【bàn】导【dǎo】体【tǐ】。MOS管的source和drain是可以【yǐ】对【duì】调的 ,他【tā】们都是在P型backgate中形成的【de】N型区。
场效应管(FET),把【bǎ】输【shū】入电压【yā】的变化【huà】转化为【wéi】输出【chū】电流的变化 。FET的【de】增益等于【yú】它的transconductance, 定义为输出电流的变【biàn】化【huà】和输入电压【yā】变化之比。
参考资料MOS管_百度百科
场效应管
mos管三个管脚的
栅极
相当于
晶体管
的
基极
mos管三个管脚,源极和漏极分别对应于晶体管的
发射极
和
集电极
。将
万用表
置于R×1k档mos管三个管脚 ,用两
表笔
分别测量每两个管脚间的正 、
反向
电阻
。当某两个【gè】管脚间【jiān】的正【zhèng】、反向【xiàng】电阻相等,均为数KΩ时,则这两【liǎng】个管脚【jiǎo】为漏极D和源【yuán】极S(可互换) ,余【yú】下的一个【gè】管脚即为【wéi】栅极【jí】G 。
根据场效应管的
PN结
正、反向电阻值不一样的现象,可以判别出
结型场效应管
的【de】三【sān】个电极:若两次测出的【de】电阻值均很大【dà】,说明是【shì】PN结的反向【xiàng】 ,即【jí】都是【shì】反向电阻,可以判定是N
沟道
场效应管,且
黑表
笔接的是栅极mos管三个管脚;若两【liǎng】次测【cè】出【chū】的电阻值均很小 ,说明是正向PN结【jié】,
即是
正向电阻
,判定为【wéi】P沟道场【chǎng】效应【yīng】管 ,黑表笔接【jiē】的也【yě】是栅极。
1.正面管脚向【xiàng】下从左【zuǒ】到右依次【cì】是【shì】 G D S (也有特殊的)。
2.带P的大多是P沟道的 。
3.万用表二极管档测量【liàng】,如果都通了【le】一定坏(半死状态测量很【hěn】麻烦【fán】。)
举例说明 ,自己【jǐ】画了一个通俗、简单的场效【xiào】应【yīng】管驱【qū】动LED的电路图,左图为N沟道场效应管(型【xíng】号IRF630),右图为P沟道场【chǎng】效应管【guǎn】(型号IRF9640) ,电源电压12V,具体到【dào】你这【zhè】个电路中,图中【zhōng】电阻等【děng】元件【jiàn】可【kě】以根据实际电路【lù】更换相关阻值 ,从图中你可以初步了解场【chǎng】效应管做开【kāi】关电路的【de】接法。下面简要【yào】说明 。
场【chǎng】效应【yīng】管,英【yīng】文缩写MOSFET,一般有3个管脚。依内部【bù】PN结方向的不同 ,MOSFET分为N沟道型【xíng】(上【shàng】图)和【hé】P沟道【dào】型(下图),如下面图所示,一般使用N沟道型可带来便捷性。
N沟道MOSFET管用【yòng】法【fǎ】】:(栅极【jí】G高电平D与S 间导通 ,栅【shān】极G低电平D与S间 截止,P沟【gōu】道与之【zhī】相反)
栅极/基极(G)接控制信号,
源极(S)接【jiē】负【fù】载电源【yuán】负极(模拟地),漏极(D)接负载输出【chū】负【fù】极 ,负载输入正极【jí】直接接负载电源正极 。
当栅极/基极(G)电【diàn】压大于MOSFET管开启【qǐ】电压(通常为1.2V),源极(S)到漏极(D)导通,导通电流很【hěn】小 ,可以【yǐ】认为【wéi】源极(S)和漏极(D)直接短接。这样负载负极被【bèi】连【lián】通【tōng】负载电源负极,负载工作。当栅极/基极【jí】(G)电压小于【yú】MOSFET管开启电压时,源极(S)到【dào】漏极(D)电阻极【jí】大 ,可以【yǐ】认为源极(S)到漏极【jí】(D)断路,则负【fù】载负【fù】极【jí】被负载电源正【zhèng】极拉高,负【fù】载【zǎi】不【bú】工【gōng】作 。(这里只【zhī】用最易理解的语言说说用法【fǎ】 ,事实上MOSFET的开启和关闭取决【jué】于栅【shān】极【jí】/基【jī】极(G)和源极【jí】(S)之间的正【zhèng】压差)
这样,我们只要控制MOSFET的【de】栅极/基极【jí】(G)电压有无,即可控制负载的【de】工作与不工作 ,形成一【yī】个开关效应。MOSFET管【guǎn】的【de】开关时间非常快,一【yī】般在【zài】纳秒极,你就【jiù】认【rèn】为是瞬【shùn】间开启/关闭就【jiù】可以了,在MOSFET管内部是【shì】没有延迟【chí】的。
由于MOSFET管的快【kuài】速开关特【tè】性 ,使用高【gāo】频PWM方波【bō】信号对其栅极【jí】/基极(G)进行控制,可以在输出端获得超高速【sù】切换的平均【jun1】电压【yā】,这个平均电压取决于PWM波的占空【kōng】比。这【zhè】就是UBEC或者电调等模型设备的降压和调速原理 。这【zhè】种高【gāo】频开关降压方【fāng】法几【jǐ】乎没有能量损失 ,效率一般【bān】在95%以上。
【P沟【gōu】道MOSFET管用法【fǎ】】:】:(栅极G高电平D与S 间截止,栅极【jí】G低电【diàn】平D与S间 导通)
栅极/基极(G)接控制信号,源极【jí】(S)接负载电源正【zhèng】极 ,漏【lòu】极(D)接负载输【shū】入正极,负载输出负极直接接负【fù】载【zǎi】电源【yuán】负极(模【mó】拟地)。
当栅极【jí】/基极(G)电压【yā】小于源【yuán】极(S)电压(负载电源电压)1.2V以【yǐ】上时,源极(S)到漏极【jí】(D)导通【tōng】 ,导通电流很【hěn】小,可【kě】以认为源极(S)和漏极(D)直接短接 。这样【yàng】负载【zǎi】正【zhèng】极被连通负载电源正极,负载【zǎi】工【gōng】作。当栅极/基极(G)电压小于源极(S)电压(负【fù】载电【diàn】源电压)不足1.2V ,或栅【shān】极【jí】/基极(G)电压大于等于源极(S)电【diàn】压时,源【yuán】极(S)到漏极【jí】(D)电阻极大,可以认为源【yuán】极(S)到漏【lòu】极【jí】(D)断路,则负载不工作【zuò】。
MOSFET场效应管做为快【kuài】速【sù】开【kāi】关元件的用法就简【jiǎn】单说到这里 ,复杂理论咱不说【shuō】它【tā】,知道【dào】怎么用就行了 。如果仅【jǐn】仅是【shì】做为电子开关使【shǐ】用,也可以简单用三【sān】极管代【dài】替MOSFET管 ,只不【bú】过三极管的效率、开关速度 、开关可靠性远不【bú】如MOSFET管。
G:gate栅极mos管三个管脚;S:source 源极【jí】;D:drain 漏极。N沟【gōu】道的电【diàn】源一般接在Dmos管三个管脚,输出Smos管三个管脚,P沟道的电源一般接在Smos管三个管脚 ,输出D 。增强耗尽接【jiē】法基【jī】本一【yī】样【yàng】。
这是【shì】MOS管【guǎn】热释电【diàn】红外传感器,那个矩形框是感应窗口,G脚为接【jiē】地端【duān】 ,D脚为【wéi】内部MOS管漏【lòu】极【jí】,S脚为内部MOS管源极【jí】。在电路中,G接地 ,D接【jiē】电源正,红外信号从窗口输入,电信号从【cóng】S输出 。
关于MOS管
晶【jīng】体管有N型channel所有它称为N-channel MOS管,或NMOS。P-channel MOS(PMOS)管也存在 ,是一个由【yóu】轻掺杂的N型BACKGATE和P型source和drain组成【chéng】的【de】PMOS管。
判断源极S、漏极D
将【jiāng】万用表拨【bō】至【zhì】R×1k档分别丈量三个管脚之【zhī】间【jiān】的【de】电阻。用交换表笔法测两次电阻,其【qí】中【zhōng】电阻值较低(一般为【wéi】几千欧至十几千【qiān】欧)的一次为正向电阻,此时【shí】黑【hēi】表笔的是S极 ,红表笔接D极 。因为测试前提不同,测【cè】出的RDS(on)值比【bǐ】手册中给出的典【diǎn】型【xíng】值要高一【yī】些。
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