用数字万用表测量MOS管好坏及引脚的方法:以N沟道MOS场效应管为例 。
一、先确定MOS管的引脚:
1 、先对MOS管放电,将三个脚短路即可;
1、首【shǒu】先找出【chū】场【chǎng】效应管的D极(漏极)。对于【yú】TO-252、TO-220这类【lèi】封装的带有散热片的场效应管 ,它们的散【sàn】热片在内部是【shì】与【yǔ】管【guǎn】子的【de】D极相【xiàng】连的,故我们可用数字万用表的二极管档测量管子的各个引脚,哪【nǎ】个引【yǐn】脚与散热片相连 ,哪【nǎ】个【gè】引脚就是【shì】D极。
2 、找到D极后,将万用表调至二极管档;
3、用黑【hēi】表笔接触管子的D极,用【yòng】红【hóng】表笔【bǐ】分别接触管子的另【lìng】外两个引脚 。若接触到某个引脚时 ,万用表显【xiǎn】示的读数为一个硅二极管【guǎn】的【de】正【zhèng】向压【yā】降【jiàng】,那么该引【yǐn】脚即【jí】为S极(源极),剩下的那个引脚即为G极(栅极【jí】)。
二、MOS管好坏的测量:
1 、当【dāng】把红表笔放在S极上,黑表【biǎo】笔放在【zài】D极【jí】上 ,可以测出【chū】来这个【gè】导通压降,一【yī】般在【zài】0.5V左右为【wéi】正常;
2、G脚测量,需【xū】要先对G极充下电 ,把红表笔放在G极,黑【hēi】表【biǎo】笔放【fàng】在S极;
3、再次把【bǎ】红表笔放在S极上,黑表笔放在【zài】D极上 ,可以测出来【lái】这【zhè】个放大压【yā】降,一般在0.3V左【zuǒ】右为【wéi】正常;
扩展资料
MOS管的主要参数
1、开启电压VT
开【kāi】启电压(又称【chēng】阈值【zhí】电压):使得源极S和漏极【jí】D之【zhī】间开始形成【chéng】导电沟【gōu】道所需【xū】的栅极电压;
标准【zhǔn】的N沟道MOS管,VT约【yuē】为3~6V;通【tōng】过工【gōng】艺上的改进 ,可以使MOS管【guǎn】的【de】VT值降到【dào】2~3V。
2 、直流输入电阻RAH
即在栅源极之间加的电压与栅极电流之比
这一特性有时以流过栅极的栅流表示
MOS管的RAH可以很容易地超过1010Ω 。
3.、漏源击穿电压BVDS
在【zài】VAH=0(增强型)的条件下,在增加漏源【yuán】电压过【guò】程中使【shǐ】ID开始剧增时的VDS称为漏源【yuán】击穿【chuān】电压【yā】BVDS
ID剧增的原因有下列两个方面:
(1)漏极附近耗尽层的雪崩击穿;
(2)漏源极间的穿通击穿;
有【yǒu】些【xiē】MOS管中,其沟道长【zhǎng】度【dù】较短 ,不断增【zēng】加【jiā】VDS会使【shǐ】漏【lòu】区的耗尽层一直扩【kuò】展【zhǎn】到源区,使沟【gōu】道长度为零【líng】,即产生漏源间的穿通,穿通后 ,源区中的多数载流子,将直接受【shòu】耗尽层电场的吸【xī】引,到达漏区 ,产生大【dà】的【de】ID。
4、栅源击穿电压BVAH
在增加栅源电【diàn】压过程中,使【shǐ】栅极【jí】电流IG由零【líng】开始剧增时的【de】VAH,称为栅源【yuán】击穿电【diàn】压BVAH。
5 、低频跨导gm
在VDS为【wéi】某一固定【dìng】数值的条件下 ,漏极【jí】电流的微【wēi】变量【liàng】和引起这个变化的栅源电【diàn】压【yā】微【wēi】变量之比【bǐ】称为跨导;
gm反映了栅源电压对漏极电流的控制能力,是表征MOS管放大能力的一个重要参数
一般在十分之几至几mA/V的范围内
6、导通电阻RON
导通电阻RON说明了VDS对【duì】ID的影响【xiǎng】,是漏极特性某一点切线的斜率【lǜ】的倒【dǎo】数【shù】
在饱和区 ,ID几乎不【bú】随VDS改变,RON的数值很大,一【yī】般在几十千欧到几百【bǎi】千欧之【zhī】间【jiān】
由于在数【shù】字【zì】电路中 ,MOS管导通时【shí】经常工作在VDS=0的【de】状【zhuàng】态下,所【suǒ】以这时的导通电阻RON可用【yòng】原点的RON来近【jìn】似
·对一般的MOS管而言,RON的数值在几百欧以内
7、极间电容
三【sān】个电【diàn】极之间都存在着极间电容:栅源【yuán】电【diàn】容CAH 、栅漏电容CGD和漏源电容【róng】CDS
CAH和CGD约为【wéi】1~3pF,CDS约在0.1~1pF之间
8、低频噪声系数NF
噪声是【shì】由管子内部载【zǎi】流子运动的不规则性所引起【qǐ】的。·由于它【tā】的【de】存在 ,就使一个放大器即便在【zài】没有信号【hào】输人【rén】时,在输【shū】出端也【yě】出现不规则的电压或电流变化【huà】
噪【zào】声性【xìng】能的大小通常用噪声系数【shù】NF来表【biǎo】示,它【tā】的单【dān】位【wèi】为分贝(dB) 。这个【gè】数值越小 ,代表管子【zǐ】所产生的【de】噪声越小
低频噪声系数是在低频范围内测出的噪声系数
场效应【yīng】管的噪声系数约为几【jǐ】个分贝【bèi】,它比【bǐ】双极【jí】性三极【jí】管的要小
以N沟道MOS场效应管5N60C为例4n65emos管怎么测好坏,来详细介绍一下具体4n65emos管怎么测好坏的测量方法。
1.N沟道MOS场效应管好坏4n65emos管怎么测好坏的测量方法
2.用数字【zì】万用表二极管档正【zhèng】向测【cè】量5N60C的D-S两极。
测量5N60C好坏时 ,首先将万用表量程开关调至二【èr】极管档【dàng】,将5N60C的【de】G极悬空,用红黑表笔【bǐ】分【fèn】别接触5N60C的D-S两极【jí】 ,若【ruò】是【shì】好的管子【zǐ】,万用表显示为“OL”,即【jí】溢【yì】出(见【jiàn】上图) 。
3.用数字万【wàn】用表二极管档反向测量5N60C的D-S两极。
然后调【diào】换红黑表笔 ,再去测【cè】量D-S两极,则万用表显示的【de】读【dú】数【shù】为一个【gè】硅二极管的【de】正向压【yā】降(见上图)。
若MOS场效应管内部D-S两极之间的寄【jì】生【shēng】二极管击穿损坏,用二极管档测量时,万【wàn】用【yòng】表显示的读数接近于【yú】零 。
4.用万用表的【de】二极【jí】管档给5N60C栅源两【liǎng】极(G-S两极)之【zhī】间的【de】电容充【chōng】电。对于【yú】N沟道MOS场效【xiào】应管【guǎn】充电时 ,红表笔应接管【guǎn】子的G极,黑表笔【bǐ】接管子的S极。
在测量完5N60C的D-S两极,并且确【què】实是【shì】好的之【zhī】后 ,然后【hòu】用二极管档给MOS场效应管的栅源【yuán】两【liǎng】极之间的电容充电 。
由【yóu】于【yú】MOS场效应管的输入电阻在【zài】GΩ级(GΩ读作吉欧,1GΩ=1000MΩ),数字万用【yòng】表二极管【guǎn】档的开路测【cè】量电【diàn】压【yā】约为2.8~3V ,故用二极管档的测量电【diàn】压给MOS场效【xiào】应管的栅源两极之间的电【diàn】容充电后,可以使MOS场效应管D-S两【liǎng】极之间的电阻变得很小【xiǎo】,故用这个方法可以【yǐ】测量场效应管G-S两极之【zhī】间是否损坏【huài】。
5.5N60C的G-S两极间【jiān】的电容充【chōng】电后 ,用电阻档【dàng】实测D-S两极之间【jiān】的正向电阻为【wéi】155.4Ω。
6.用【yòng】万用表电阻【zǔ】档实测5N60C的D-S两极之间【jiān】的【de】反向电阻为67.2Ω 。
上面为【wéi】一【yī】个【gè】好的N沟道MOS场效【xiào】应管的测量数据。对于P沟道【dào】MOS场效应管的测量方法与【yǔ】上述测量一样,只【zhī】是万用表表笔需要调换【huàn】一【yī】下极【jí】性。
扩展资料4n65emos管怎么测好坏:
mos管是金【jīn】属【shǔ】(metal)—氧化物(oxide)—半导体(semiconductor)场效应晶【jīng】体管,或者称是金属—绝缘体(insulator)—半导体。MOS管【guǎn】的source和drain是可【kě】以对调的 ,他们都是在P型backgate中形成的N型区 。在【zài】多数情况【kuàng】下,这个两个区是一【yī】样的【de】,即使两【liǎng】端【duān】对调也【yě】不会影响【xiǎng】器件的【de】性能。这【zhè】样的器件被【bèi】认为【wéi】是对称的【de】。
场效应管(FET),把输入【rù】电压的变【biàn】化【huà】转【zhuǎn】化为输【shū】出电流的【de】变化【huà】 。FET的增【zēng】益等于它【tā】的transconductance ,定义为输出电流的变化和输入电压变化之比。市面上常有【yǒu】的一【yī】般为N沟道和【hé】P沟道,详情参考右侧图片(N沟【gōu】道耗尽型MOS管【guǎn】)。而【ér】P沟【gōu】道常见【jiàn】的为低压mos管【guǎn】 。
场效应管通过投影一个电【diàn】场【chǎng】在一个绝缘层上来影响流过晶体管的电流。事实上【shàng】没【méi】有电流流过【guò】这个【gè】绝【jué】缘体,所以【yǐ】FET管【guǎn】的GATE电流【liú】非常小。
最【zuì】普【pǔ】通的FET用一薄【báo】层二氧【yǎng】化硅来作为GATE极下的绝缘【yuán】体 。这种晶体管称为金属氧化物半导体(MOS)晶体管 ,或【huò】,金【jīn】属氧化物半【bàn】导【dǎo】体场效应【yīng】管(MOSFET)。因为MOS管更小【xiǎo】更省电,所以【yǐ】他们【men】已经【jīng】在很多应用场合取代【dài】4n65emos管怎么测好坏了双极型晶体管。
测试MOS好坏只能用指针式万用表才方便点4n65emos管怎么测好坏,测试时选择欧姆R×10K档4n65emos管怎么测好坏 ,这时电压可达10.5V4n65emos管怎么测好坏,红笔是负电位,黑笔是正电位 。
测试步骤4n65emos管怎么测好坏:
MOS管4n65emos管怎么测好坏的检测主【zhǔ】要是判断MOS管漏电、短【duǎn】路 、断路、放大。其步骤如下:
1、把红笔【bǐ】接到MOS的源极S上【shàng】 ,黑【hēi】笔接到MOS管的漏极【jí】上,好的表针指示应该是无穷【qióng】大。如果有【yǒu】阻值没被测MOS管【guǎn】有【yǒu】漏【lòu】电【diàn】现象。
2 、用一只100KΩ-200KΩ的【de】电【diàn】阻连在栅极和源极上【shàng】,然后把【bǎ】红【hóng】笔接【jiē】到MOS的源【yuán】极S上 ,黑笔接到MOS管的漏【lòu】极上,这【zhè】时【shí】表针指示的值一般是0,这时是下电荷【hé】通过这【zhè】个电阻对MOS管的【de】栅极【jí】充电,产生栅极电场 ,由于【yú】电场产生导致导电沟道【dào】致使漏极和源极【jí】导通【tōng】,故万用表指针偏【piān】转【zhuǎn】,偏转的角度大 ,放电性越【yuè】好【hǎo】 。
3、把连【lián】接栅【shān】极【jí】和源极的电【diàn】阻移【yí】开,万用表红黑笔不变,如【rú】果【guǒ】移开电阻后表【biǎo】针慢慢【màn】逐步【bù】退回到高阻或无穷大 ,则MOS管漏【lòu】电,不变则完好。
4、然后【hòu】一根导线把MOS管的栅【shān】极和源【yuán】极【jí】连接起来【lái】,如果指针立即返回【huí】无穷【qióng】大 ,则MOS完好。
用万能表检测mos管好坏的方法:
将万用表两个表笔分别搭接在其他两个极:给B极与任【rèn】意一个极接一个【gè】10千欧姆电阻,电阻先不要【yào】接【jiē】上,把表【biǎo】笔分别【bié】放在两【liǎng】级 ,电阻这时再【zài】接【jiē】触,指【zhǐ】针摆动越大证【zhèng】明该管子放【fàng】大系数【shù】就越【yuè】大,也【yě】就是说该管子就越【yuè】好,反之越差 。
接【jiē】电阻的那一【yī】端为C极;若【ruò】是红表笔为P管 ,黑表笔为N管。凡是【shì】不符合以上测量【liàng】数据的三【sān】极管都【dōu】是坏的。
万用表的相关要求规定:
1、指针表【biǎo】读取精度较【jiào】差,但指针摆动的过程比【bǐ】较直观,其【qí】摆动速度【dù】幅【fú】度有【yǒu】时也能比较客观地反映了被测量的大小(比如测【cè】电视机数据【jù】总【zǒng】线(SDL)在传送数据时的轻微【wēi】抖动);数字表读数【shù】直观【guān】 ,但数字变化的过程【chéng】看起【qǐ】来很杂乱,不太容【róng】易观【guān】看【kàn】 。
2 、数字【zì】万用表的准【zhǔn】确度是【shì】测量结果中系统误差与随机误差的综合【hé】。它表示测量值与真【zhēn】值的一致程度,也【yě】反映【yìng】测【cè】量误差【chà】的【de】大小。一【yī】般讲准确度愈高 ,测量误差【chà】就愈【yù】小,反之【zhī】亦然 。
3、指针表【biǎo】内一般有两块电池,一块低【dī】电压的1.5V,一块是高电压的9V或15V,其黑表笔相对红表笔来说是正【zhèng】端【duān】。数【shù】字【zì】表【biǎo】则常用一块6V或9V的电池。在【zài】电阻档 ,指针表的表笔【bǐ】输出电流相对【duì】数字【zì】表来【lái】说要大很【hěn】多,用【yòng】R×1Ω档可以使扬声器发出响亮的“哒 ”声,用【yòng】R×10kΩ档甚至可以点【diǎn】亮发光二【èr】极【jí】管【guǎn】 。
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